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Deposition 이해 - CVD, PVD
- 반도체 집적소자 제작 공정에서 전기적인 연결 및 절연을 위한 금속막층과 절연막층을 형성시키 위해 사용하는 CVD 방식과 PVD 방식의 박막 증착 공정에 대해 공정 원리 및 특성을 학습하여 직무 역량을 함양하는 과정
| 학습시간 | 총 20차시 35일 과정 |
|---|---|
| 강사 | 김기세, 김창호, 김준호 |
| 교재 |
|
수료 조건
| 수료항목 | 수료기준 | 평가 방법 |
|---|---|---|
| 평가 |
- 시험 있는 과정 : 시험 응시(점수 무관) - 시험 없는 과정 : 시험 없음(진도율로 수료) ※ 기업의 요청이 있을 경우, 수료기준은 다를 수 있습니다. |
- 최종평가 선다형 문제 20문항 출제 총 100점 만점, 배점 각 5점. (총 100% 반영) |
| 진도율 |
진도율 100% 기준, 100% 이상 시 수료 가능 ※ 기업의 요청이 있을 경우, 수료기준은 다를 수 있습니다. |
차시별 총 학습시간의 특정 시간 이상 학습한 차시만 해당 과정의 총 진도율에 반영됩니다. ※ 산업안전보건교육은 90%이상 학습한 차시만 해당 과정의 총 진도율에 반영됩니다. |
학습목표
- - 반도체의 기초부터 시작하여 진공기술 기초, 플라즈마 기술 기초 등 CVD, PVD를 이해할 수 있다.
- - 각 박막 증착 공정의 특성 및 장,단점을 쉽게 파악할 수 있다.
- - 전체적인 공정 흐름에 대한 이해와 CVD, PVD의 이해를 통해 현부서의 개발에 도움이 된다.
- - 1,2,3번의 이해과정을 통해서 업무 내에서 직무 능력을 향상시킬 수 있다.
학습대상
- - 반도체 관련 기업의 업무를 진행하고 있는 사원~과장, 책임급
- - 반도체 관련 기업에서 영업을 진행하고 있는 사원~과장, 책임급
- - 반도체와 유사한 공정 Process를 진행하고 있는 기업의 사원~과장, 책임급
강사 소개
김기세
(내용전문가)
- 경력
- 총 경력 : 30년 0개월
- - 페어차일드 코리아 ( 25 년 )
- - 삼성전자 ( 4 년 11 개월 )
- 학력
- - 인하대학교 전자공학과( 석사졸업 )
김창호
(내용전문가)
- 경력
- 전) 국내 대기업 11년 근무
- 현) 엘캠퍼스 교강사
- 학력
- 미국 Top 20 MBA 출신
김준호
(내용전문가)
- 경력
- 현) 엘캠퍼스 교강사
- 전) 대기업 반도체 선행 연구 개발팀 연구원 3년
- 전) 연구 개발 담당 및 공정 프로세스 담당
- 학력
- 미국 TOP 10 대학원 출신
훈련내용
| 차시 | 차시명 | 강의시간 |
|---|---|---|
| 1차시 | 단위공정 최적화하기 박막증착 서론 - 실리콘 기본 특성 | 30분 |
| 2차시 | 단위공정 최적화하기 박막증착 서론 - 진공 및 플라즈마의 특성 | 29분 |
| 3차시 | 단위공정 최적화하기 박막증착 서론 - 플라즈마 발생원 및 응용 공정 | 29분 |
| 4차시 | 단위공정 최적화하기 CVD - CVD 기초 | 33분 |
| 5차시 | 단위공정 최적화하기 CVD - CVD 반응 및 설비 비교 | 30분 |
| 6차시 | 단위공정 최적화하기 CVD - CVD 박막 종류 및 증착 방법 별 산화막 특성 비교 | 30분 |
| 7차시 | 단위공정 최적화하기 CVD - CVD 설비 | 30분 |
| 8차시 | 단위공정 최적화하기 CVD - Step Coverage and Gap fill | 27분 |
| 9차시 | 단위공정 최적화하기 CVD - Sticking coefficient 및 step coverge 특성 | 27분 |
| 10차시 | 단위공정 최적화하기 CVD - 증착 방법 별 Gap fill 특성 | 28분 |
| 11차시 | 단위공정 최적화하기 CVD - PMD 와 Na contamination | 29분 |
| 12차시 | 단위공정 최적화하기 PVD - PVD 소개와 Evaporation 방법 | 27분 |
| 13차시 | 단위공정 최적화하기 PVD - Evaporation 공정 특성 | 31분 |
| 14차시 | 단위공정 최적화하기 PVD - Sputtering 소개 | 31분 |
| 15차시 | 단위공정 최적화하기 PVD - Sputtering Mechanism | 26분 |
| 16차시 | 단위공정 최적화하기 PVD - sputtering 박막 특성 | 28분 |
| 17차시 | 단위공정 최적화하기 PVD - Magnetron sputtering | 28분 |
| 18차시 | 단위공정 최적화하기 PVD - 다양한 Sputtering 방법 | 29분 |
| 19차시 | 단위공정 최적화하기 PVD - metallization 응용 | 27분 |
| 20차시 | 단위공정 최적화하기 PVD - Cu interconnect | 29분 |
모사답안 처리기준
- 모사답안의 정의
- 과제·시험에서 타인의 답안을 그대로 복사하거나, 문장의 구조·핵심 표현이 동일한 상태에서 일부만 바꾸어 제출한 답안을 모사답안이라고 합니다. 인터넷·서적·강의자료의 내용을 출처 없이 그대로 옮겨 적는 경우도 포함될 수 있습니다. - 처리 원칙
- 모사답안으로 판정된 경우, 해당 평가의 점수는 0점 처리됩니다.
- 모사답안이 1건 이상 적발되면 해당 수강생의 전체 과정이 미수료로 처리될 수 있습니다.
- 반복·중대한 부정행위 발생 시, 해당 사업장은 최대 1년간 직업능력개발훈련비 지원이 제한될 수 있습니다.
수강 후기
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Deposition에 대해 이해하는 계기가 되었습니다.
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Deposition 이해 - CVD, PVD
반도체
알찬 강의 잘 들었습니다.
반도체
강사님 설명 유익했습니다. 마지막 강의 때 말씀하신 것처럼 ALD 교육도 추가해주세요!