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반도체 8대 공정장비의 이해 - Diffusion & Ion Implantation
- 반도체 8대 공정중 하나로 점점 중요성이 증대되고 있는 DNI 공정에 대하여 확산 이론을 비롯한 기초적 이론부터 산화 공정, 설비, 그리고 이온 주입의 이론 및 설비, 그리고 이를 실제로 적용한 이온 주입 공정까지를 깊이있게 이해하여 직무적 역량을 키우는 과정
| 학습시간 | 총 14차시 35일 과정 |
|---|---|
| 강사 | 김기세, 조남면, 김창호, 김준호 |
| 교재 |
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수료 조건
| 수료항목 | 수료기준 | 평가 방법 |
|---|---|---|
| 평가 |
- 시험 있는 과정 : 시험 응시(점수 무관) - 시험 없는 과정 : 시험 없음(진도율로 수료) ※ 기업의 요청이 있을 경우, 수료기준은 다를 수 있습니다. |
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| 진도율 |
진도율 100% 기준, 100% 이상 시 수료 가능 ※ 기업의 요청이 있을 경우, 수료기준은 다를 수 있습니다. |
차시별 총 학습시간의 50% 이상 학습한 차시만 해당 과정의 총 진도율에 반영됩니다. |
학습목표
- - 반도체 DNI가 들어가는 공정에 대한 전반적인 지식을 이해하고, 이를 현업에 활용할 수 있다.
- - 반도체 DNI의 기본작동 동작을 이해하고, 공정별로 이해도를 높일 수 있다.
- - 반도체 DNI가 쓰이는 생산에 이용되는 공정에 대해서 원리를 이해하고 간접 경험할 수 있다.
- - 반도체 DNI 적용 공정의 이해과정을 통해서 업무 내에서 직무 능력을 향상시킬 수 있다.
학습대상
- - 반도체 diffusion & ion implantation가 적용되는 공정과 관련 기업의 업무를 진행하고 있는 사원~부장, 수석급
- - 반도체 diffusion & ion implantation가 적용되는 공정과 관련 기업에서 영업을 진행하고 있는 사원~부장, 수석급
- - 반도체 diffusion & ion implantation가 적용되는 공정 및 유사한 공정 Process를 진행하고 있는 기업의 사원~부장, 수석급
강사 소개
김기세
(내용전문가)
- 경력
- 총 경력 : 30년 0개월
- - 페어차일드 코리아 ( 25 년 )
- - 삼성전자 ( 4 년 11 개월 )
- 학력
- - 인하대학교 전자공학과( 석사졸업 )
조남면
(내용전문가)
- 경력
- 총 경력 : 13년 3개월
- - 삼성전자 공정개발팀 ( 13 년 3 개월 )
- 학력
- - 서울대학교 무기재료공학과( 석사졸업 )
김창호
(내용전문가)
- 경력
- 전) 국내 대기업 11년 근무
- 현) 엘캠퍼스 교강사
- 학력
- 미국 Top 20 MBA 출신
김준호
(내용전문가)
- 경력
- 현) 엘캠퍼스 교강사
- 전) 대기업 반도체 선행 연구 개발팀 연구원 3년
- 전) 연구 개발 담당 및 공정 프로세스 담당
- 학력
- 미국 TOP 10 대학원 출신
훈련내용
| 차시 | 차시명 | 강의시간 |
|---|---|---|
| 1차시 | Prologue - Patterning 과정 | 30분 |
| 2차시 | Prologue - Wafer Fabrication(1)_공정흐름도 해석하기 | 30분 |
| 3차시 | Prologue - Wafer Fabrication(2)_공정흐름도 해석하기 | 36분 |
| 4차시 | 확산장비 Set-Up하기 – About SiO2(1) | 31분 |
| 5차시 | 확산장비 Set-Up하기 – About SiO2(2) | 32분 |
| 6차시 | 확산장비 Set-Up하기 – About SiO2(3) | 29분 |
| 7차시 | 확산장비 Set-Up하기 – About SiO2(4) | 30분 |
| 8차시 | 확산장비 Set-Up하기 – SiO2 Growth | 30분 |
| 9차시 | 확산장비 Set-Up하기 – SiO2 Growth Equipment(1) | 28분 |
| 10차시 | 확산장비 Set-Up하기 – SiO2 Growth Equipment(2) | 29분 |
| 11차시 | 이온주입장비 Set-Up하기 – Ion Implantation(1) | 29분 |
| 12차시 | 이온주입장비 Set-Up하기 – Ion Implantation(2) | 29분 |
| 13차시 | 이온주입장비 Set-Up하기 – Ion Implantation Application(1) | 30분 |
| 14차시 | 이온주입장비 Set-Up하기 – Ion Implantation Application(2) | 33분 |
모사답안 처리기준
- 모사답안의 정의
- 과제·시험에서 타인의 답안을 그대로 복사하거나, 문장의 구조·핵심 표현이 동일한 상태에서 일부만 바꾸어 제출한 답안을 모사답안이라고 합니다. 인터넷·서적·강의자료의 내용을 출처 없이 그대로 옮겨 적는 경우도 포함될 수 있습니다. - 처리 원칙
- 모사답안으로 판정된 경우, 해당 평가의 점수는 0점 처리됩니다.
- 모사답안이 1건 이상 적발되면 해당 수강생의 전체 과정이 미수료로 처리될 수 있습니다.
- 반복·중대한 부정행위 발생 시, 해당 사업장은 최대 1년간 직업능력개발훈련비 지원이 제한될 수 있습니다.
수강 후기
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