추천검색어
반도체 산업 및 공정별 이슈
- 반도체 산업의 전반적인 현황과 주요 기술적 이슈를 시작으로 Cleaning 및 Photolithography 공정에서 발생하는 문제점과 이를 해결하기 위한 기술적 접근법을 이해할 수 있는 과정
| 학습시간 | 총 4차시 30일 과정 |
|---|---|
| 강사 | 브리즈, 세미오 |
| 교재 |
|
수료 조건
| 수료항목 | 수료기준 | 평가 방법 |
|---|---|---|
| 평가 |
- 시험 있는 과정 : 시험 응시(점수 무관) - 시험 없는 과정 : 시험 없음(진도율로 수료) ※ 기업의 요청이 있을 경우, 수료기준은 다를 수 있습니다. |
시험평가 없음 |
| 진도율 |
진도율 100% 기준, 100% 이상 시 수료 가능 ※ 기업의 요청이 있을 경우, 수료기준은 다를 수 있습니다. |
차시별 총 학습시간의 특정 시간 이상 학습한 차시만 해당 과정의 총 진도율에 반영됩니다. ※ 산업안전보건교육은 90%이상 학습한 차시만 해당 과정의 총 진도율에 반영됩니다. |
학습목표
- - 반도체 산업의 현재 동향과 주요 기술 이슈를 이해하고 이를 설명할 수 있다.
- - 반도체 공정에서 Cleaning 및 Photolithography의 핵심 역할과 주요 기술적 과제를 파악하고 이를 해결하기 위한 방법론을 이해할 수 있다.
- - 각 공정에서 발생하는 대표적인 이슈와 이를 해결하기 위해 사용되는 최신 기술 및 사례를 설명할 수 있다.
학습대상
- - 반도체 산업의 최신 현황 및 기술 이슈를 이해하고자 하는 분
- - 반도체 공정(Cleaning, Photolithography)별 문제점 및 해결 방안을 통해 실무 역량 증진이 필요한 분
강사 소개
브리즈
(강사)
- 경력
- 반도체 자동화 설비 기업 근무
- 반도체 장비사 설비 엔지니어
- 학력
- 단국대학교 전자전기공학부 학사
세미오
(강사)
- 경력
- 現) S전자 반도체 메모리사업부 MTC Clean공정 설비 엔지니어
- 現) 반도체 생산기술연구소 전임교수
- 학력
- 서울 S대학교 신소재공학과 졸업
- K대 경영전문대학원 졸업
훈련내용
| 차시 | 차시명 | 강의시간 |
|---|---|---|
| 1차시 | 반도체 주요 현황 및 이슈 | 30분 |
| 2차시 | 반도체 주요 기술 이슈 | 30분 |
| 3차시 | 반도체 공정별 이슈 - Cleaning | 29분 |
| 4차시 | 반도체 공정별 이슈 - Photolithography | 42분 |
모사답안 처리기준
- 모사답안의 정의
- 과제·시험에서 타인의 답안을 그대로 복사하거나, 문장의 구조·핵심 표현이 동일한 상태에서 일부만 바꾸어 제출한 답안을 모사답안이라고 합니다. 인터넷·서적·강의자료의 내용을 출처 없이 그대로 옮겨 적는 경우도 포함될 수 있습니다. - 처리 원칙
- 모사답안으로 판정된 경우, 해당 평가의 점수는 0점 처리됩니다.
- 모사답안이 1건 이상 적발되면 해당 수강생의 전체 과정이 미수료로 처리될 수 있습니다.
- 반복·중대한 부정행위 발생 시, 해당 사업장은 최대 1년간 직업능력개발훈련비 지원이 제한될 수 있습니다.
수강 후기
수강 후기 데이터가 없습니다.