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디스플레이 제조공정 심화
- 디스플레이 각 공정별 주요 변수, 사용 재료, 발생 이슈에 대한 심층된 이론을 학습할 수 있는 과정
| 학습시간 | 총 9차시 30일 과정 |
|---|---|
| 강사 | 이광원 |
| 교재 |
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수료 조건
| 수료항목 | 수료기준 | 평가 방법 |
|---|---|---|
| 평가 |
- 시험 있는 과정 : 시험 응시(점수 무관) - 시험 없는 과정 : 시험 없음(진도율로 수료) ※ 기업의 요청이 있을 경우, 수료기준은 다를 수 있습니다. |
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| 진도율 |
진도율 100% 기준, 100% 이상 시 수료 가능 ※ 기업의 요청이 있을 경우, 수료기준은 다를 수 있습니다. |
차시별 총 학습시간의 50% 이상 학습한 차시만 해당 과정의 총 진도율에 반영됩니다. |
학습목표
- - Backplane, EVEN, 모듈공정 등 각 공정 단계의 특징과 역할에 대해 설명할 수 있다.
- - 디스플레이 주요 공정의 원리에 대해 이해하고 각 공정의 특징과 공정변수에 대해 이해할 수 있다.
- - 디스플레이 생산장비의 종류에 대해 이해하고, 장비에 사용되는 요소기술에 대해 학습할 수 있다.
- - 최신 디스플레이 공정의 이슈 및 관련 기술에 대해 학습할 수 있다.
학습대상
- - 디스플레이 공정별 역할 및 특징을 학습하고자 하는 자
- - 디스플레이 각 단위공정의 공정변수에 대한 이해도를 높이고자 하는 자
- - 디스플레이 생산/장비 분야 재직자
강사 소개
이광원
(강사+내용전문가)
- 경력
- 前 삼성전자 LCD/OLED 개발 5년
- 前 삼성전자 TV사업부(VD) 4년
- 前 LG디스플레이 2.5년
- 前 DuPont 전자재료 사업부 13년 경력
- 학력
- 서울대학교 물리학 석사
훈련내용
| 차시 | 차시명 | 강의시간 |
|---|---|---|
| 1차시 | 공정성능 개선하기_디스플레이 공정 구조 | 32분 |
| 2차시 | 디스플레이 장비 요소기술 | 37분 |
| 3차시 | 화학기상 증착 공정 개발하기_Backplane공정 - CVD | 28분 |
| 4차시 | 스퍼터링 공정 개발하기_Backplane공정 - Sputter | 36분 |
| 5차시 | 포토 공정 개발하기_Backplane공정 - Photo | 38분 |
| 6차시 | 건식식각 공정 개발하기_Backplane공정 - Dry etch | 31분 |
| 7차시 | 습식식각 공정 개발하기_Backplane공정 - Wet etch, Clean | 30분 |
| 8차시 | 소자 구조 설계하기_Backplane공정 - LTPS, 폴더블 공정 | 33분 |
| 9차시 | 봉지 공정 개발하기_EVEN, 모듈 공정 | 37분 |
모사답안 처리기준
- 모사답안의 정의
- 과제·시험에서 타인의 답안을 그대로 복사하거나, 문장의 구조·핵심 표현이 동일한 상태에서 일부만 바꾸어 제출한 답안을 모사답안이라고 합니다. 인터넷·서적·강의자료의 내용을 출처 없이 그대로 옮겨 적는 경우도 포함될 수 있습니다. - 처리 원칙
- 모사답안으로 판정된 경우, 해당 평가의 점수는 0점 처리됩니다.
- 모사답안이 1건 이상 적발되면 해당 수강생의 전체 과정이 미수료로 처리될 수 있습니다.
- 반복·중대한 부정행위 발생 시, 해당 사업장은 최대 1년간 직업능력개발훈련비 지원이 제한될 수 있습니다.
수강 후기
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