서브 경로
총15차시 5주 과정
김준호 외 2명 선생님
수강대상
직무영역
연구개발
생산/제조
일반/영업/마케팅
교육대상
신입
과장/선임
부장/수석
교재안내
※교재는 환급제외 대상입니다.[학습자료] 반도체 공정설비 - 플라즈마
0 원
수강신청
STEP1 과정유형 선택
| 일반 수강료 | 예상 수강료 (기업/단체) |
|---|---|
| 47,520 원 |
대기업교육비 : 47,520원
예상지원금액 : 19,008원
예상수강료 : 28,512원
본인이 수강지원금 환급 대상자인지의 여부는
소속 노동사무소 (고용지원센터)에 문의하여 반드시 확인하시기 바랍니다. |
|
중견기업교육비 : 47,520원
예상지원금액 : 38,016원
예상수강료 : 9,504원
본인이 수강지원금 환급 대상자인지의 여부는
소속 노동사무소 (고용지원센터)에 문의하여 반드시 확인하시기 바랍니다. |
|
|
우선지원대상기업교육비 : 47,520원
예상지원금액 : 42,768원
예상수강료 : 4,752원
본인이 수강지원금 환급 대상자인지의 여부는
소속 노동사무소 (고용지원센터)에 문의하여 반드시 확인하시기 바랍니다. |
STEP2 개강일 선택
| 과정 분류 | 제목 | 모집마감일 | 교육기간 | 상태 | 강의신청 |
|---|---|---|---|---|---|
| 신규과정으로, 현재 작업 중입니다. (약 일주일 소요 예정) |
|||||
※교육기간은 해당 회사 인사담당자의 승인 여부에 따라 달라질 수 있습니다.
컨텐츠 탭
훈련목표
- 플라즈마 원리와 특성을 알고, 반도체 공정에서 사용하는 플라즈마의 특성에 대해 이해할 수 있다.
- 플라즈마 형성 과정과 상호작용을 이해할 수 있다.
- 기체 분자 운동론과 진공에 대해 이해하고, 진공 상태에서 공정의 특성을 이해할 수 있다.
- Dry Etch, PECVD, PVD 등 플라즈마 사용 공정의 각 구조와 특성을 이해할 수 있다.
훈련대상
- 반도체 관련 기업의 업무를 진행하고 있는 사원~부장, 수석급
- 반도체 관련 기업에서 영업을 진행하고 있는 사원~부장, 수석급
- 반도체와 유사한 공정 Process를 진행하고 있는 기업의 사원~부장, 수석급
교수진소개
내용전문가
김준호 선생님
학력
미국 TOP 10 대학원 출신
경력
현) 엘캠퍼스 교강사
전) 대기업 반도체 선행 연구 개발팀 연구원 3년
전) 연구 개발 담당 및 공정 프로세스 담당
전) 대기업 반도체 선행 연구 개발팀 연구원 3년
전) 연구 개발 담당 및 공정 프로세스 담당
내용전문가
김창호 선생님
학력
미국 Top 20 MBA 출신
경력
전) 국내 대기업 11년 근무
현) 엘캠퍼스 교강사
현) 엘캠퍼스 교강사
내용전문가
조남면 선생님
학력
- 서울대학교 무기재료공학과( 석사졸업 )
경력
총 경력 : 13년 3개월
- 삼성전자 공정개발팀 ( 13 년 3 개월 )
- 삼성전자 공정개발팀 ( 13 년 3 개월 )
수료기준
| 수료 항목 | 수료 기준 | 평가 방법 |
|---|---|---|
| 시험 | * 환급(사업주훈련) 과정 100점 만점 기준 60점 이상 * 비환급(일반) 과정 - 시험 있는 과정 : 시험 응시(점수 무관) - 시험 없는 과정 : 시험 없음(진도율로 수료) ※ 기업의 요청이 있을 경우, 수료기준은 다를 수 있습니다. |
- 최종평가 선다형 문제 20문항 출제 총 100점 만점, 배점 각 5점. (총 100% 반영) |
| 진도율 | * 환급(사업주훈련) 과정 진도율 100% 기준, 80% 이상 시 수료 가능 * 비환급(일반) 과정 진도율 100% 기준, 100% 이상 시 수료 가능 |
차시별 총 학습시간의 50% 이상 학습한 차시만 해당 과정의 총 진도율에 반영됩니다. |
훈련내용
| 차시 | 차시명 | 학습 목표 | 강의 시간 |
|---|---|---|---|
| 1차시 | 단위공정 최적화하기_Plasma 기초 (1) | - 공정개선 요구사항을 확인하여 성능개선을 위한 재료 선택 및 공정 방법을 도출할 수 있다. - 성능 개선의 요구에 따라 전/후 공정을 고려하여 단위공정을 효율적으로 재구성할 수 있다. - 공정 최적화를 통해 효율적인 공정을 설계하고 검증할 수 있다. - 공정의 특성을 객관적으로 평가하여 개발된 공정의 적합성을 판별할 수 있다. |
29분 |
| 2차시 | 단위공정 최적화하기_Plasma 기초 (2) | - 공정개선 요구사항을 확인하여 성능개선을 위한 재료 선택 및 공정 방법을 도출할 수 있다. - 성능 개선의 요구에 따라 전/후 공정을 고려하여 단위공정을 효율적으로 재구성할 수 있다. - 공정 최적화를 통해 효율적인 공정을 설계하고 검증할 수 있다. - 공정의 특성을 객관적으로 평가하여 개발된 공정의 적합성을 판별할 수 있다. |
25분 |
| 3차시 | 단위공정 최적화하기_Plasma 기초 (3) | - 공정개선 요구사항을 확인하여 성능개선을 위한 재료 선택 및 공정 방법을 도출할 수 있다. - 성능 개선의 요구에 따라 전/후 공정을 고려하여 단위공정을 효율적으로 재구성할 수 있다. - 공정 최적화를 통해 효율적인 공정을 설계하고 검증할 수 있다. - 공정의 특성을 객관적으로 평가하여 개발된 공정의 적합성을 판별할 수 있다. |
27분 |
| 4차시 | 단위공정 최적화하기_Plasma 기초 (4) | - 공정개선 요구사항을 확인하여 성능개선을 위한 재료 선택 및 공정 방법을 도출할 수 있다. - 성능 개선의 요구에 따라 전/후 공정을 고려하여 단위공정을 효율적으로 재구성할 수 있다. - 공정 최적화를 통해 효율적인 공정을 설계하고 검증할 수 있다. - 공정의 특성을 객관적으로 평가하여 개발된 공정의 적합성을 판별할 수 있다. |
26분 |
| 5차시 | 단위공정 최적화하기_Plasma 기초 (5) | - 공정개선 요구사항을 확인하여 성능개선을 위한 재료 선택 및 공정 방법을 도출할 수 있다. - 성능 개선의 요구에 따라 전/후 공정을 고려하여 단위공정을 효율적으로 재구성할 수 있다. - 공정 최적화를 통해 효율적인 공정을 설계하고 검증할 수 있다. - 공정의 특성을 객관적으로 평가하여 개발된 공정의 적합성을 판별할 수 있다. |
29분 |
| 6차시 | 단위공정 최적화하기_기체 분자 운동론과 진공 (1) | - 공정개선 요구사항을 확인하여 성능개선을 위한 재료 선택 및 공정 방법을 도출할 수 있다. - 성능 개선의 요구에 따라 전/후 공정을 고려하여 단위공정을 효율적으로 재구성할 수 있다. - 공정 최적화를 통해 효율적인 공정을 설계하고 검증할 수 있다. - 공정의 특성을 객관적으로 평가하여 개발된 공정의 적합성을 판별할 수 있다. |
26분 |
| 7차시 | 단위공정 최적화하기_기체 분자 운동론과 진공 (2) | - 공정개선 요구사항을 확인하여 성능개선을 위한 재료 선택 및 공정 방법을 도출할 수 있다. - 성능 개선의 요구에 따라 전/후 공정을 고려하여 단위공정을 효율적으로 재구성할 수 있다. - 공정 최적화를 통해 효율적인 공정을 설계하고 검증할 수 있다. - 공정의 특성을 객관적으로 평가하여 개발된 공정의 적합성을 판별할 수 있다. |
30분 |
| 8차시 | 단위공정 최적화하기_Plasma 형성 방법 (1) | - 공정개선 요구사항을 확인하여 성능개선을 위한 재료 선택 및 공정 방법을 도출할 수 있다. - 성능 개선의 요구에 따라 전/후 공정을 고려하여 단위공정을 효율적으로 재구성할 수 있다. - 공정 최적화를 통해 효율적인 공정을 설계하고 검증할 수 있다. - 공정의 특성을 객관적으로 평가하여 개발된 공정의 적합성을 판별할 수 있다. |
25분 |
| 9차시 | 단위공정 최적화하기_Plasma 형성 방법 (2) | - 공정개선 요구사항을 확인하여 성능개선을 위한 재료 선택 및 공정 방법을 도출할 수 있다. - 성능 개선의 요구에 따라 전/후 공정을 고려하여 단위공정을 효율적으로 재구성할 수 있다. - 공정 최적화를 통해 효율적인 공정을 설계하고 검증할 수 있다. - 공정의 특성을 객관적으로 평가하여 개발된 공정의 적합성을 판별할 수 있다. |
25분 |
| 10차시 | 단위공정 최적화하기_Plasma 사용 공정 - Dry Etch (1) | - 공정개선 요구사항을 확인하여 성능개선을 위한 재료 선택 및 공정 방법을 도출할 수 있다. - 성능 개선의 요구에 따라 전/후 공정을 고려하여 단위공정을 효율적으로 재구성할 수 있다. - 공정 최적화를 통해 효율적인 공정을 설계하고 검증할 수 있다. - 공정의 특성을 객관적으로 평가하여 개발된 공정의 적합성을 판별할 수 있다. - 실시간 공정 모니터링 센서를 활용하여 실시간 공정진단을 수행할 수 있다. |
28분 |
| 11차시 | 단위공정 최적화하기_Plasma 사용 공정 - Dry Etch (2) | - 공정개선 요구사항을 확인하여 성능개선을 위한 재료 선택 및 공정 방법을 도출할 수 있다. - 성능 개선의 요구에 따라 전/후 공정을 고려하여 단위공정을 효율적으로 재구성할 수 있다. - 공정 최적화를 통해 효율적인 공정을 설계하고 검증할 수 있다. - 공정의 특성을 객관적으로 평가하여 개발된 공정의 적합성을 판별할 수 있다. - 실시간 공정 모니터링 센서를 활용하여 실시간 공정진단을 수행할 수 있다. |
29분 |
| 12차시 | 단위공정 최적화하기_Plasma 사용 공정 - Dry Etch (3) | - 공정개선 요구사항을 확인하여 성능개선을 위한 재료 선택 및 공정 방법을 도출할 수 있다. - 성능 개선의 요구에 따라 전/후 공정을 고려하여 단위공정을 효율적으로 재구성할 수 있다. - 공정 최적화를 통해 효율적인 공정을 설계하고 검증할 수 있다. - 공정의 특성을 객관적으로 평가하여 개발된 공정의 적합성을 판별할 수 있다. - 실시간 공정 모니터링 센서를 활용하여 실시간 공정진단을 수행할 수 있다. |
27분 |
| 13차시 | 단위공정 최적화하기_Plasma 사용 공정 - PECVD | - 공정개선 요구사항을 확인하여 성능개선을 위한 재료 선택 및 공정 방법을 도출할 수 있다. - 성능 개선의 요구에 따라 전/후 공정을 고려하여 단위공정을 효율적으로 재구성할 수 있다. - 공정 최적화를 통해 효율적인 공정을 설계하고 검증할 수 있다. - 공정의 특성을 객관적으로 평가하여 개발된 공정의 적합성을 판별할 수 있다. |
30분 |
| 14차시 | 단위공정 최적화하기_Plasma 사용 공정 - PVD (Sputtering) | - 공정개선 요구사항을 확인하여 성능개선을 위한 재료 선택 및 공정 방법을 도출할 수 있다. - 성능 개선의 요구에 따라 전/후 공정을 고려하여 단위공정을 효율적으로 재구성할 수 있다. - 공정 최적화를 통해 효율적인 공정을 설계하고 검증할 수 있다. - 공정의 특성을 객관적으로 평가하여 개발된 공정의 적합성을 판별할 수 있다. |
31분 |
| 15차시 | 단위공정 최적화하기_Plasma 사용 공정 - Doping | - 공정개선 요구사항을 확인하여 성능개선을 위한 재료 선택 및 공정 방법을 도출할 수 있다. - 성능 개선의 요구에 따라 전/후 공정을 고려하여 단위공정을 효율적으로 재구성할 수 있다. - 공정 최적화를 통해 효율적인 공정을 설계하고 검증할 수 있다. - 공정의 특성을 객관적으로 평가하여 개발된 공정의 적합성을 판별할 수 있다. |
28분 |
수강후기
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| 번호 | 과정 분류 | 제목 | 등록일 | 조회수 |
|---|---|---|---|---|
| 10 | 반도체 | 좋은 강의 감사합니다. | 2024-03-28 | 36 |
| 9 | 반도체 | 공정에 대해 심도있게 알 수 있었습니다. | 2024-03-26 | 50 |
| 8 | 반도체 | 잘 들었습니다 | 2024-03-05 | 65 |
| 7 | 반도체 | 반도체 공정이론 후기 | 2024-02-29 | 68 |
| 6 | 반도체 | 도움이됐습니다 | 2024-02-20 | 86 |
| 5 | 반도체 | 굳 | 2024-02-14 | 79 |
| 4 | 반도체 | 반도체 환경 설비 직무향상에 도움이됩니다 | 2024-01-26 | 106 |
| 3 | 반도체 | 막연했던 그림이 구체적으로.... | 2023-12-03 | 168 |
| 2 | 반도체 | 교육 | 2023-11-06 | 152 |
| 1 | 반도체 | 유익한 정보를 많이 배웠습니다. | 2023-09-21 | 235 |
유의사항
